在座谈会上，双方就集成电路布图设计保护制度如何更有效地服务创新主体展开了务实探讨。微光集电分享了其布图设计保护的实践经验，公司同时介绍了在技术国产化推进和核心IP完全自主研发方面取得的进展。

交流的核心议题紧密围绕当前集成电路产业在知识产权保护上面临的关键挑战。 微光集电指出，尽管国内EDA产业持续发展，但在关键设计环节仍依赖国外软件工具，国产EDA实现全流程覆盖和有效替代尚需突破，这成为制约自主可控发展的重要瓶颈。双方深入探讨了布图设计侵权判定中的难点，特别是现有布图设计在作为侵权证据时清晰度不足的问题，一致认为这影响了判定的效率和维权的成功率，并就可能的改进路径交换了建设性意见。此外，微光集电也分享了其知识产权保护策略正从防御型向积极构建核心技术壁垒方向进行战略转型的趋势。

杜少南处长认真听取了企业的诉求和建议，尤其关注了国产EDA工具支持和提升布图设计证据清晰度等关键问题。他表示，国家知识产权局高度重视来自创新主体的声音，此次调研收获的一线意见对于持续完善集成电路布图设计保护制度、优化知识产权保护环境至关重要，将为后续政策制定和服务优化提供有力依据，切实支撑芯片产业的高质量发展。

汪佼副处长表示，四川省将持续优化知识产权服务生态，全力支持以微光集电为代表的硬科技企业提升核心竞争力。此次调研有效增进了政企互信，为未来共同探索更契合产业发展需求的知识产权保护新路径奠定了良好基础。